Трубчатые печи для плазмохимического осаждения пленок PECVD до 1200℃.
Интеллектуальная система PECVD
Система PECVD предназначена для снижения температуры реакции традиционного CVD. В ней установлено высокочастотное индукционное устройство перед традиционным CVD , так что генерирует плазму за счет ионизации реактивных газов. Плазмы ускоряет реакцию благодаря высокой активности плазмы. Таким образом, эта система называется PECVD.
Эта модель является новейшим продуктом, она синтезировала преимущества большинства систем печей PECVD, и добавила зону предварительного нагрева в передней части системы печей PECVD.Испытания показали более быстрое осаждение, лучшее качество пленки, меньшее количество пустот и отсутствие растрескивания. Автоматическая интеллектуальная система управления AISO самостоятельно разработана нашей компанией, она более удобна в эксплуатации, и ее функции более мощные.
Печь PECVD имеет широкий спектр применения: непрерывный рост металлических тонких пленок, тонких керамических пленок, композитных тонких пленок и различных тонких пленок. Легко добавлять функции, расширяемые функции, такие как плазменная очистка и травление.
Видео лабораторной печи PECVD
Особенности
- Высокая скорость осаждения пленки: Технология RF свечения, значительно увеличивает скорость осаждения пленки, скорость осаждения может достигать 10Å / S
- Высокая однородность площади: Передовая технология многоточечного источника питания RF, специальное распределение газа, технология нагрева и т. д. позволяют индексу однородности пленки достигать 8%.
- Высокая согласованность: благодаря передовым концепциям проектирования полупроводниковой промышленности, отклонение между подложками одного осаждения составляет менее 2%.
- Высокая стабильность процесса: высокостабильное оборудование обеспечивает непрерывный и стабильный процесс.
Печь PECVD проходит испытания
Стандартное исполнение:
- Заглушка 4 шт
- Топочная труба 1 шт
- Вакуумный насос 1 шт
- Вакуумный уплотнительный фланец 2 комплекта
- V вакуумный манометр 1 шт
- Подача газа и вакуумный насос
- Плазменное оборудование RF
Дополнительные запчасти:
- Быстросъемный фланец, Трехходовой фланец
- 7-дюймовый сенсорный экран HD
Технические характеристики
| 1. Система нагрева | ||
| Т макс | 1200℃ (1 час) | |
| Рабочая температура | ≤1100℃ | |
| Размеры рабочего пространства | Φ100*1650mm (Диаметр трубки настраивается по желанию заказчика) | |
| Материал камеры | Древесноволокнистая плита из алюминия высокой чистоты | |
| Термопара | Тип K | |
| Точность контроля температуры | ±1℃ | |
| Контроль температуры | ● 50 программируемых сегментов для точного контроля скорости нагрева, скорости охлаждения и времени выдержки. ● Встроенная функция автонастройки PID с защитой от перегрева и обрыва термопары. ● Система автоматического управления PLC с помощью контроллера ПК внутри. ● Система контроля температуры, система скольжения (время и расстояние) могут управляться программой. | |
| Длина нагрева | 440mm | |
| Длина постоянная нагрева | 200mm | |
| Нагревательный элемент | Сопротивление | |
| Электропитание | 1 фаз, 220В, 50Гц | |
| Номинальная мощность | 9000ВТ | |
| 2. Источник радиочастотной плазмы | ||
| Радиочастота | 13.56 MHz±0.005% | |
| Выходная мощность | 500В | |
| Максимальная отражающая способность | 500В | |
| Выходной радиочастотный интерфейс | 50 Ω, тип N, женский | |
| Стабильность мощности | ±0.1% | |
| Гармоническая составляющая | ≤-50dbc | |
| Напряжение питания/частота | Однофазный AC220В 50/60Гц | |
| Полная эффективность | >=70% | |
| Коэффициент мощности | >=90% | |
| Метод охлаждения | Принудительный воздух | |
| 3. Система управления тремя прецизионными массовыми расходомерами | ||
| Внешнее измерение | 600x600x650mm | |
| Connector type | Swagelok SS joint | |
| Стандартный диапазон (N2) | 0~100sccm, 0~200sccm, or настраиваемый | |
| Точность | ±1.5% | |
| Линейный | ±0.5～1.5% | |
| Повторяемость | ±0.2% | |
| Время отклика | Gas property: 1～4 Sec; Electrical property: 10 Sec | |
| Диапазон давления | 0.1～0.5 MPa | |
| Макс.давление | 3MPa | |
| Интерфейс | Φ6,1/4” | |
| Дисплей | 4 цифровой дисплей | |
| Температура окружающей среды | 5~45 газ высокой чистоты | |
| Манометр | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/unit | |
| Запорный клапан | Φ6 | |
| Польская SS трубка | Φ6 | |
| Система низкого вакуума в комплекте | ||
Посмотрите другие наши печи:
- Трубчатые печи 1600 CVD
- Трубчатые печи 1600°C
- Шахтные трубчатые печи
- Вращающиеся трубчатые печи
- Многозонные трубчатые печи
- 3D-печь для спекания мягких металлов для Ti и Co-Cr
Следите за нами на Facebook
